「第8回研究会」
6月29日(金)に第8回偏光計測研究会を株式会社堀場製作所東京セールスオフィス(東京・淡路町)にて開催致します． 本研究会は，エリプソメトリーやポラリメトリーに代表される偏光を用いた計測技術に関して議論と情報交換を行い， この技術分野における日本の研究開発を活性化し，そのレベルを向上しようとする集まりです． 2007年11月から活動を開始し， 半年毎に研究会を開催しております． これまでに東北大学(仙台)，産業技術総合研究所(つくば)，北海道大学(札幌)，横浜市立大学(横浜)， 山梨大学(甲府)，宇都宮大学，東京工芸大学と7回開催されてきました． 偏光計測に関心をお持ちの研究者，技術者，学生の皆様のご参加をお待ちしております． なお，当日はチュートリアルとしてフランスのEcole Polytechnique, CNRSからミュラー行列エリプソメトリーと，イタリアのInstitute of Inorganic Methodologies and of Plasmas, IMIP-CNRからグラフィンとプラズモニクス：実時間分光偏光計のお話を予定しております．
日程: 2012年6月29日金曜日 10:15-17:30
場所: 株式会社 堀場製作所 東京セールスオフィス
参加費: 一般3,000円，学生300円
プログラム
10:15-10:20
開会の辞
10:20-11:20
チュートリアル1: Mueller ellipsometry: Basic Principles, Instrumentation and Applications
E. Garcia-Caurel, R. Ossikovski, A. de Martino (LPICM, Ecole Polytechnique, CNRS, France)
予稿PDF
11:20-11:30
休憩
11:30-12:30
チュートリアル2: Graphene and Plasmonics: the Nanoscale Challenges for Real-time Spectroscopic Ellipsometry
Maria Losurdo (Institute of Inorganic Methodologies and of Plasmas, IMIP-CNR, via Orabona 4, 70126 Bari, Italy)
予稿PDF
12:30-14:00
昼食休憩
13:15-事前申込の方のみ，堀場製作所東京分析センター見学
14:00-14:30
講演1: High-speed透過型Four Detector Polarimeterの開発
川畑州一1, 津留俊英2, 田所利康3（東京工芸大1, 東北大多元研2, テクノシナジー3)
14:30-15:00
講演2: 半連続金属膜近傍における半導体ナノ結晶の発光遷移特性
中村俊博, 古田和也, 安達定雄(群馬大学大学院工学研究科)
15:00-15:30
講演3: Real-time monitoring of optical anisotropy in the growth of PEDOT:PSS composite by electrospray deposition (ESD) using spectroscopic ellipsometry for crystalline Si heterojunction solar cells
日當大我, 渡辺恭平, 石川良, 上野啓司, 白井肇(埼玉大理工)
15:30-15:50
休憩
15:50-16:20
講演4: 斜入射検出器を用いた真空紫外エリプソメータによるストークス・パラメータおよび光学定数測定
齋藤輝文1, 尾崎恭介2, 福井一俊2, 岩井浩紀2, 山本晃司3, 三宅秀人4, 平松和政4(東北工大工1, 福井大工2, 福井大遠赤3, 三重大工4)
16:20-16:50
講演5: イオン液体のソフト界面の分光エリプソメトリー
西直哉, 粕谷浩二, 大神諒, 垣内隆(京大院工)
16:50-17:20
講演6: 高分子/液晶ホログラフィック格子が有する光学異方性のθ-2θ分光回折法による解析
垣内田洋*, 吉村和記, 田澤真人, 荻原昭文†(産総研、神戸高専†)
17:20-17:30
閉会の辞
18:00-
懇親会