「第11回偏光計測研究会」
日程: 2015年12月4日金曜日
場所: 株式会社フォトロン 東京都千代田区神田神保町一丁目105番地
プログラム
9:50-10:00（10分） イントロダクトリートーク
布施信夫（株式会社フォトロン 代表取締役社長）
10:00-11:00（60分） 【講演1】（チュートリアル 1）
結晶光学
黒田和男（宇都宮大学）
11:00-11:25（25分） 【講演2】
分光エリプソメトリー（SE）による太陽電池用ペロブスカイト薄膜形成反応の評価
○山中孝紀、船田修二、石川良、上野啓司、白井肇 (埼玉大院理工)
11:25-11:50（25分） 【講演3】
テラヘルツ・エリプソメトリによる半導体評価
岩本敏志(日邦プレシジョン株式会社)
11:50-12:15（25分） 【講演4】
エリプソメトリー測定における透明基板裏面反射の影響とその除去
田所利康(有限会社テクノ・シナジー)
12:15-13:15（60分）昼食休憩
午後の部
司会：稲秀樹（キヤノン株式会社）
13:15-13:40（25分） 【講演5】 (EUV・VUV関連ミニセッション)
EUV用偏光光学素子の開発と応用
津留俊英(山形大学)
13:40-14:15（35分） 【講演6】 (EUV・VUV関連ミニセッション)
光源ストークス・パラメータが測定可能な真空紫外エリプソメータ
○齋藤輝文 (東北工大工) 、尾崎恭介、福井一俊（福井大工）
14:15-14:50（35分） 【講演7】 (EUV・VUV関連ミニセッション)
UVSOR BL7Bビームラインのストークス・パラメータ測定
久保賢洋、宮下雅樹、那須勇樹、藤居佑輔（福井大工）、山本晃司（福井大遠赤）、○福井一俊(福井大工)、齋藤輝文（東北工大工）
14:50-15:05（25分）休憩
司会：津留俊英(山形大学)
15:05-15:30（25分） 【講演8】
吸収型ガラス偏光子「Glapola®」の活用による高性能化
田淵泰志 (岡本硝子株式会社)、 堀米秀嘉（株式会社エガリム）
15:30-15:55（25分） 【講演9】
光弾性変調器の選択と基本的な使用方法
島田竜太郎(株式会社東京インスツルメンツ)
15:55-16:55（60分） 【講演10】 （チュートリアル２）
Polarization Optical Design and Analysis for Polarimetry
ラッセル・チップマン(アリゾナ大学)
16:55-17:25（30分） 株式会社フォトロン・製品デモ
17:25-17:30（5分） クロージング・リマークス
大谷幸利（宇都宮大学）
18:00-20:00 懇親会